新菱冷熱工業株式会社


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極微量成分分析基盤技術

環境中に存在する微量の化学物質や微生物などを測定・分析。
オフィスや住宅などの居住環境において、室内空気の汚染によるシックビルやシックハウス症候群などが深刻な社会問題となっています。また、半導体や液晶などの製造工場でも、従来のパーティクル制御に加えて、空気中の分子状汚染物質を制御することがより重要となってきています。医薬品・食品工場、病院などでも細菌やカビ等の微生物対策が不可欠といえるでしょう。このような要望に応えるために、環境中の微量化学物質や微生物などを測定・分析する技術を確立。それぞれのニーズに合った、最適な室内環境を提供しています。




ガスクロマトグラフ/質量分析計(GC/MS)
室内空気汚染の原因物質であるトルエンなどのVOC、半導体工場で制御対象とされるフタル酸エステルなどの有機物を分析する装置です。有機物を吸着剤に捕集し、加熱脱着により分析。または、キャニスターと呼ばれる缶に捕集します。定量下限は50ng/m3です。シックハウス対策用と半導体・液晶工場用の質量分析計(GC/MS)を所有しています。

ウェハ加熱脱着装置
シリコンウェハやガラス基板に付着した有機物を加熱し、脱着させる装置です。脱着した有機物はGC/MSで分析。定量下限は0.001ng/cm2です。

高速液体クロマトグラフ(HPLC) 室内空気汚染の原因物質とされるホルムアルデヒドなどを分析。定量下限は500ng/m3です。

イオンクロマトグラフ 溶液中のイオン成分を測定する装置です。半導体・液晶工場では、空気中のアンモニアなどの水溶性成分を測定するために使われています。インピンジャーに超純水などの吸収液を入れ、空気をバブリングさせて捕集。その後に、吸収液を分析します。イオンクロマトグラフは、設置雰囲気のイオン成分が測定値に影響を与えるため、ケミカルフィルターを装備したクリーンルーム内に設置。定量下限は10ng/m3です。

誘導結合プラズマ/質量分析計(ICP/MS) 溶液中の金属成分を測定する装置です。半導体・液晶工場においては、空気中の金属成分を測定するために使用されます。測定方法はイオンクロマトグラフと同様で、インピンジャーの中で空気をバブリングさせ、吸収液を分析します。設置雰囲気の金属汚染が測定値に影響を与えるため、クリーンルーム内に設置されるという点もイオンクロマトグラフと同じです。定量下限は1ng/m3です。

微生物同定システム 微生物の細胞膜に含まれる脂肪酸を分析し、その組成比から微生物の種類を特定するシステムです。今までこの作業には1ヶ月以上かかっていましたが、このシステムなら1/4以下に短縮することができます。

GC/MS

高速液体クロマトグラフ
(HPLC)

イオンクロマトグラフ

微生物同定システム


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