大形チャンバー

		チャンバー内の背景濃度でTVOC10μg/㎥、VOC2μg/㎥以下を実現。 供給空気の化学物質を除去するために、 除去能力の高い「改質活性炭」を用いた清浄空気供給装置を使用しています。
		二重チャンバー方式のシステムを開発（特許第668474号）。 チャンバー内環境の温湿度および換気量を制御します。
		チャンバー機能を維持する装置からの化学物質の放散・吸脱着を抑えます。
		チャンバー内の空気を汚染源から守ることで、高い清浄度を保持します。
		装置外部からの化学物質流入量も最小限に抑えます。
		清浄空気供給装置には、汚染に強い流量調整バルブを使用したユニットを組み込み、 換気回数を幅広いレンジで調整できるようにしました。