ガスクロマトグラフ/質量分析計(GC/MS)

室内空気汚染の原因物質とされるトルエンなどのVOC、半導体工場で制御対象とされるフタル酸エステルなどの有機物を分析する装置です。吸着剤に捕集し、加熱脱着により分析を行うか、キャニスターと呼ばれる缶に捕集します。定量下限は50ng/m³です。シックハウス対策用、半導体・液晶工場用および臭気対策用の3台のGC/MSを所有しています。

ウェハ加熱脱着装置

シリコンウェハやガラス基板に付着した有機物を加熱して脱着させる装置です。脱着した有機物はGC/MSで分析されます。定量下限は0.001ng/cm²です。

高速液体クロマトグラフ(HPLC)

室内空気汚染の原因物質とされるホルムアルデヒドを分析します。定量下限は0.8μg/m³です。

高速液体クロマトグラフ（HPLC）

イオンクロマトグラフ

溶液中のイオン成分を測定する装置です。半導体・液晶工場では、空気中のアンモニアなどの水溶性成分を測定するために使用されます。インピンジャーに超純水などの吸収液をいれ、空気をバブリングさせて捕集します。その後、吸収液を分析します。

設置雰囲気のイオン成分が測定値に影響を与えるため、イオンクロマトグラフはケミカルフィルターを装備したクリーンルーム内に設置しています。定量下限は10ng/m³です。

誘導結合プラズマ/質量分析計(ICP/MS)

溶液中の金属成分を測定する装置です。半導体・液晶工場における空気中の金属成分を測定するために使用されます。

測定方法はイオンクロマトグラフと同様に、インピンジャーに空気をバブリングさせ、吸収液を分析します。

イオンクロマトグラフ同様に設置雰囲気の金属汚染が測定値に影響を与えるため、クリーンルーム内に設置しています。定量下限は1ng/m³です。

走査電子顕微鏡

60,000倍まで拡大して観察、微小部の元素分析も行うことができます。

金属、非金属材料に関わらず、様々な物質や材料の分析評価に活用しています。

走査電子顕微鏡