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研究テーマ

基盤技術
極微量成分分析技術

環境中に微量に存在する化学物質や微生物を測定する技術

背景と概要

オフィスビルや住宅などの居住環境では、室内空気汚染によるシックビルやシックハウス症候群が社会問題化しています。半導体・液晶工場では、従来のパーティクル制御に加えて、空気中の分子状汚染物質に対する制御が重要になってきています。医薬品・食品工場や病院では従来よりカビ等の微生物対策が重要です。このような課題に応えるため、環境中に存在する微量化学物質などの分析技術を確立しニーズに合った室内環境を提供しています。

内容

ガスクロマトグラフ/質量分析計(GC/MS)

室内空気汚染の原因物質とされるトルエンなどのVOC、半導体工場で制御対象とされるフタル酸エステルなどの有機物を分析する装置です。吸着剤に捕集し、加熱脱着により分析を行うか、キャニスターと呼ばれる缶に捕集します。定量下限は50ng/m³です。シックハウス対策用、半導体・液晶工場用および臭気対策用の3台のGC/MSを所有しています。

ウェハ加熱脱着装置

シリコンウェハやガラス基板に付着した有機物を加熱して脱着させる装置です。脱着した有機物はGC/MSで分析されます。定量下限は0.001ng/cm²です。

高速液体クロマトグラフ(HPLC)

室内空気汚染の原因物質とされるホルムアルデヒドを分析します。定量下限は0.8μg/m³です。

高速液体クロマトグラフ(HPLC)

イオンクロマトグラフ

溶液中のイオン成分を測定する装置です。半導体・液晶工場では、空気中のアンモニアなどの水溶性成分を測定するために使用されます。インピンジャーに超純水などの吸収液をいれ、空気をバブリングさせて捕集します。その後、吸収液を分析します。

設置雰囲気のイオン成分が測定値に影響を与えるため、イオンクロマトグラフはケミカルフィルターを装備したクリーンルーム内に設置しています。定量下限は10ng/m³です。

誘導結合プラズマ/質量分析計(ICP/MS)

溶液中の金属成分を測定する装置です。半導体・液晶工場における空気中の金属成分を測定するために使用されます。

測定方法はイオンクロマトグラフと同様に、インピンジャーに空気をバブリングさせ、吸収液を分析します。

イオンクロマトグラフ同様に設置雰囲気の金属汚染が測定値に影響を与えるため、クリーンルーム内に設置しています。定量下限は1ng/m³です。

走査電子顕微鏡

60,000倍まで拡大して観察、微小部の元素分析も行うことができます。

金属、非金属材料に関わらず、様々な物質や材料の分析評価に活用しています。

走査電子顕微鏡

その他の研究テーマ例

【基盤技術】極微量成分分析技術

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【基盤技術】数値流体シミュレーション技術(Computational Fluid Dynamics)

計画、設計、施工のすべてのプロセスにおいて、水・空気の流れ、温度分布、化学物質濃度分布などの環境予測を行う技術

【基盤技術】フィールド計測・制御技術

実環境のあらゆる物理量を正確かつ効率的に計測する技術、および計測システム

【基盤技術】音響・振動制御技術

設備機器の騒音・振動を制御し顧客のニーズにあった環境を提供する技術

【開発技術】ホルムアルデヒド除去システム

高性能の除去装置と独自の気流方式で、安全な作業環境を実現

【開発技術】氷蓄熱システム『ザ・自由雪計®』

過冷却水から製氷装置『トランスペット®』(特許第3338657号)でシャーベット氷を製造し、離れた蓄熱水槽まで圧送できる氷蓄熱システム

【開発技術】ICTによる施工イノベーション

ICタグ、スマートフォンを利用した施工管理の合理化システム

技術について


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