極微量成分
分析技術

環境中に微量に存在する化学物質や
微生物を測定する技術

オフィスビルや住宅などの居住環境では、室内空気汚染によるシックビルやシックハウス症候群が社会問題化しています。半導体・液晶工場では、従来のパーティクル制御に加えて、空気中の分子状汚染物質に対する制御が重要になってきています。医薬品・食品工場や病院では従来よりカビ等の微生物対策が重要です。このような課題に応えるため、環境中に存在する微量化学物質などの分析技術を確立しニーズに合った室内環境を提供しています。

ガスクロマトグラフ/質量分析計 (GC/MS)

GC/MS

室内空気汚染の原因物質とされるトルエンなどのVOC、半導体工場で制御対象とされるフタル酸エステルなどの有機物を分析する装置です。吸着剤に捕集し、加熱脱着により分析を行うか、キャニスターと呼ばれる缶に捕集します。定量下限は50ng/m³です。 シックハウス対策用、半導体・液晶工場用および臭気対策用の3台のGC/MSを所有しています。

高速液体クロマトグラフ (HPLC)

高速液体クロマトグラフ (HPLC)

室内空気汚染の原因物質とされるホルムアルデヒドを分析します。 定量下限は0.8μg/m³です。

イオンクロマトグラフ

イオンクロマトグラフ

溶液中のイオン成分を測定する装置です。半導体・液晶工場では、空気中のアンモニアなどの水溶性成分を測定するために使用されます。インピンジャーに超純水などの吸収液を入れ、空気をバブリングさせて捕集します。その後、吸収液を分析します。
設置雰囲気のイオン成分が測定値に影響を与えるため、イオンクロマトグラフはケミカルフィルターを装備したクリーンルーム内に設置しています。定量下限は10ng/m³です。

誘導結合プラズマ/質量分析計 (ICP/MS)

ICP/MS

溶液中の金属成分を測定する装置です。半導体・液晶工場における空気中の金属成分を測定するために使用されます。
測定方法はイオンクロマトグラフと同様に、インピンジャーに空気をバブリングさせ、吸収液を分析します。
イオンクロマトグラフ同様に設置雰囲気の金属汚染が測定値に影響を与えるため、クリーンルーム内に設置しています。定量下限は1ng/m³です。