クリーンルーム

お客さまのニーズに応じた、高品質・低コストなクリーンルームを。

携帯電話やデジタルカメラの小型・高機能化を支えるモバイルデバイスの高度化により、ナノ単位の微細加工によるLSIの生産ニーズはますます高まりを見せています。その生産ラインでは、従来のパーティクル制御に加えて空気中の分子レベルの汚染物質に対する制御や微振動制御が重要になっています。新菱冷熱は、クリーンルームの構築にあたって、イノベーションハブの確かな技術力を背景に、最適なコストパフォーマンスを追及し、ナノスケールに対応する究極のクリーン環境をご提供します。

新菱冷熱の取組み

高度な技術力が現場をバックアップ

高品質な空間を提供

パーティクル制御、分子汚染制御、温湿度制御、気流制御、微振動制御など、最新のクリーンルームを構築する上で重要となる要素技術に対し、イノベーションハブで培った技術力が全面的にバックアップいたします。

空調システムの検証 実物大の検証実験が可能です。
分子汚染対策 極微量分析技術でアウトガスなどによる分子汚染を評価し、対策に貢献します。
微振動対策 施工時の品質チェックで微振動対策をより確実にします。
シミュレーション HPCサーバーによるシミュレーションで、レイアウト変更による気流、温度への影響を事前にチェックします。

短期工事の実現

少品種少量生産が主流となった現在、ファブは短期間での立ち上げが必要となってきています。新菱冷熱の開発技術が工期短縮のお役に立ちます。

検査工程の短縮 風量測定装置「WINSPEC」

ランニングコスト低減

新菱冷熱が開発したダイナミック型氷蓄熱システム「ザ・自由雪計®」が、ランニングコスト低減のお役に立ちます。

氷蓄熱システム 氷蓄熱システム「ザ・自由雪計®

適切な維持・管理システム

24時間連続稼働のファブに対し、設備を適切に維持・管理するための中央監視システム、ファシリティマネジメントシステム、建設情報管理システムを提供します。

情報インテグレーション 総合情報システム「sc-brain」、三次元設計施工

要素技術

最近のクリーンルーム技術で考慮しなければいけない技術として、分子汚染対策とミニエンバイロメントがあります。

分子汚染対策

従来のパーティクル制御に加えて空気中の分子レベルの汚染物質に対する対応が必要です。

分子汚染対策

ミニエンバイロメント化への対応

工場全体の清浄度を上げるより半導体生産装置周辺部など半導体が触れる空間だけをきれいにすることが効果的です。

ミニエンバイロメント化への対応

取組み

各種クリーンルーム

クリーンルーム半導体や電子部品等の加工精度の微細化により、空気中に浮遊する微粒子や微生物を決められた清浄度以下にコントロールするクリーンルームのニーズは近年ますます高まりを見せ、クリーンルームの清浄度の要求も高度化しています。新菱冷熱では、熟練されたハイレベルな技術でこれらの要求に対応しています。

GMP・バリデーション

GMP・バリデーション医薬品は、安全性・健全性・有効性が強く求められる製品です。クリーンな製造環境を必要とするという点では半導体や液晶などの製品と同じですが安全性についての考えは大きく異なります。安全性を確保するためにはその製造工程がいかに手順通りに作られているかということが非常に重要です。これらを明確に実現するシステムがGMPやバリデーションです。新菱冷熱ではこの点を十分に理解し、優れた施設、設備の提供に努めています。

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